机译:硅和锗氢化物的电子冲击总电离截面
机译:锗氢化物(GeHX; X = 1-4)和Digermane,Ge2H6的总截面和电离截面的电子碰撞计算
机译:从阈值到5 keV的氢化硅SiHx(x = 1、2、3、4)和乙硅烷Si2H6的理论电子冲击弹性,电离和总截面
机译:通过缓慢的抗腐蚀影响,他的电离:总和差分电离横截面
机译:用于毫米波应用的硅锗虚拟衬底生长和硅(1-y)锗(y)/硅(1-x)锗(x)/硅(1-y)锗(y)HBT。
机译:烃离子的电子碰撞总电离截面
机译:电子碰撞总电离截面的计算